企业简介
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长兴化学工业股份有限公司的商标信息
| 序号 | 注册号 | 商标 | 商标名 | 申请时间 | 商品服务列表 | 内容 |
| 1 | 10203338 |  |
ETERCURE | 2011-11-18 | 涂料；紫外线硬化涂料；漆；紫外线硬化油墨；油墨；印刷电路用油墨；液态感光防焊油墨；印刷油墨 | 查看详情 |
| 2 | 1028185 |  |
ETERSOL | 塑胶树脂 | 查看详情 | |
| 3 | 10205777 |  |
ETERFLEX | 2011-11-18 | 合成树脂(半成品)；绝缘材料；电介质(绝缘体)；绝缘涂料；绝缘漆；绝缘耐火材料 | 查看详情 |
| 4 | 1028165 |  |
ETERAC | 塑胶树脂 | 查看详情 | |
| 5 | 4497987 |  |
CONFORMASK | 2005-02-04 | 涂料；紫外线硬化涂料；漆；紫外线硬化油墨；油墨；印刷电路用油墨；液态感光防焊油墨 | 查看详情 |
| 6 | 1206040 |  |
ETERKYD | 未加工的人造树脂 | 查看详情 | |
| 7 | 4497985 |  |
LAMINAR | 2005-02-04 | 工业用黏着剂；工业用化学品；感光防焊乾膜光阻；特别用于感光防焊光阻的光敏性高分子涂料 | 查看详情 |
| 8 | 6287628 |  |
ETERTEC | 2007-09-21 | 干膜抗蚀剂；液态感光防焊剂；电镀抗蚀剂；原液态抗蚀剂；印刷制版用抗蚀剂；集成电路用抗蚀剂；预涂式感光平板；底片保护膜；消泡剂 | 查看详情 |
| 9 | 4497988 |  |
CONFORMASK | 2005-02-04 | 工业用黏着剂；工业用化学品；感光防焊乾膜光阻；特别用于感光防焊光阻的光敏性高分子涂料 | 查看详情 |
| 10 | 4458032 |  |
ETERNAL | 2005-01-11 | 非包装用塑料膜(光学用) | 查看详情 |
| 11 | 1020167 |  |
ETERTEC | 干膜抗蚀剂，液态感光防焊剂，电镀抗蚀剂，原液态抗蚀剂，印刷制版用抗蚀剂，集成电路用抗蚀剂，预涂式感光平版 | 查看详情 | |
| 12 | 4458031 |  |
ETERTEC | 2005-01-11 | 液晶显示器背光模组用的光学膜；液晶显示器背光模组用的扩散膜；液晶显示器背光模组用的抗紫外线反射膜 | 查看详情 |
| 13 | 4458033 |  |
ETERTEC | 2005-01-11 | 非包装用塑料膜(光学用) | 查看详情 |
| 14 | 1297534 |  |
ETERKON EK | 环氧树脂制半导体封装材料 | 查看详情 | |
| 15 | 5707383 |  |
ETERANE | 2006-11-07 | 未加工合成树脂；未加工人造树脂；硅酮、硅树脂、聚硅氢；靴和鞋粘接剂；皮革粘合剂 | 查看详情 |
| 16 | 1297535 |  |
ETERNAL | 环氧树脂制半导体封装材料 | 查看详情 | |
| 17 | 4896816 |  |
ETERTEC | 2005-09-15 | 干膜抗蚀剂；液态感光防焊剂；电镀抗蚀剂；原液态抗蚀剂；印刷制版用抗蚀剂；集成电路用抗蚀剂；预涂式感光平版；干膜光阻；感光剂；半导体用光阻液；除去电路版及电子零件光组夜及熔接剂的化学溶剂；消泡剂 | 查看详情 |
| 18 | 2019663 |  |
ETEMAL | 抛光制剂；上光剂；抛光用纸；擦亮用剂 | 查看详情 | |
| 19 | 1206042 |  |
ETERSET | 未加工的人造树脂 | 查看详情 | |
| 20 | 4458030 |  |
ETERNAL | 2005-01-11 | 液晶显示器背光模组用的光学膜；液晶显示器背光模组用的扩散膜；液晶显示器背光模组用的抗紫外线反射膜 | 查看详情 |
| 21 | 1206041 |  |
ETERMINO | 未加工的人造树脂 | 查看详情 | |
| 22 | 1795168 |  |
ETERNAL | 工业用黏合剂；未加工人造树脂；显影剂；研磨剂（和研磨剂配用的辅助液）；研磨用辅助液；工业化学品；工业用化学品；照相用感光剂；光阻剂；半导体用光阻液 | 查看详情 | |
| 23 | 1970521 |  |
ETERPHOTO | 2001-05-08 | 半导体用光阻液；工业化学品；工业用化学品；工业用黏合剂；光阻剂；未加工人造树脂；显影剂；研磨剂(和研磨剂配用的辅助液)；研磨用辅助液；照相用感光剂 | 查看详情 |
| 24 | 349615 |  |
长兴 | 电路基板类 | 查看详情 | |
| 25 | 5707382 |  |
ETERFLON | 2006-11-07 | 未加工合成树脂；未加工人造树脂 | 查看详情 |
| 26 | 9109436 |  |
EC | 2011-01-31 | 绝缘耐火材料；绝缘体；绝缘材料 | 查看详情 |
长兴化学工业股份有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | TWM295743 | 面光源装置 | 2006.08.11 | 一种面光源装置包括：一框体，具有至少一开口，并形成一中空区域于其中；一扩散膜，系配置该框体之该开口； |
| 2 | TW200641088 | 有机发光材料及其用途 | 2006.12.01 | 本发明提供一种具有如下化学式(I)之有机发光材料：094116554-p01.bmp其中，各取代基之 |
| 3 | TW200407417 | 芳香族二胺衍生物、其制法及含彼之液晶显示器元件配向膜材料 | 2004.05.16 | 本发明揭示一种新颖的芳香族二胺衍生物。本发明之二胺衍生物可用于知四羧酸与二胺聚合反应中，形成新颖之聚 |
| 4 | TW506998 | 用于研磨半导体晶圆表面上含有金属层、障壁层、及介电层之复合物中之障壁层之化学机械研磨组合物及方法 | 2002.10.21 | 本发明系提供一种用于半导体制程之化学机械研磨组成物，其包含80-99.5重量%之水性介质；0.5-1 |
| 5 | TW200407420 | 化学机械平坦化后之水性清洗组成物 | 2004.05.16 | 本发明系关于一种用于后化学机械平坦化之水性清洗组成物，其包括0.1至10重量％四级铵盐或醇胺或其混合 |
| 6 | CN1635043A | 用于彩色光阻材料平面化的研磨浆液 | 2005.07.06 | 本发明涉及一种用于研磨彩色光阻材料的化学机械研磨浆液，该化学机械研磨浆液包含复合研磨颗粒及水性介质。 |
| 7 | TWM313787 | 光学膜 | 2007.06.11 | 本创作系关于一种光学膜，其包含一透明基材及一结构化表面，其中该结构化表面位于该透明基材之上表面且包含 |
| 8 | CN1246725A | 半导体制程用的化学机械研磨组合物 | 2000.03.08 | 本发明提供一种用于半导体制程中的化学机械研磨组合物,其包含70—95重量%的水性介质;1—25重量% |
| 9 | TWI255287 | 具紫外线吸收能力之组成物 | 2006.05.21 | 本发明系关于一种具紫外线吸收能力之组成物，包含无机微粒和氟素树脂。本发明组成物可制备成涂料，涂覆于基 |
| 10 | TWI290931 | 光可成像组成物 | 2007.12.11 | 本发明提供一种负型光可成像组成物，包含高分子黏合剂、光可聚合化合物以及光起始剂，其中高分子黏合剂含有 |
| 11 | TWI287115 | 聚光片 | 2007.09.21 | 本发明系关于一种聚光片，其包含一基材，该基材之一侧包含一个具有凹或凸粗糙结构之光扩散层。本发明之聚光 |
| 12 | CN100448909C | 感光元件封装材料组合物及其使用方法 | 2009.01.07 | 本发明是关于一种封装用的材料组合物，其包含(1)环氧树脂及(2)硬化剂，其中该环氧树脂相对于该硬化剂 |
| 13 | TWM296993 | 抗刮聚光片 | 2006.09.01 | 本创作系提供一种抗刮聚光片，其包含一透明基材，一聚光层，一抗刮层，其特征为该抗刮层系由至少一硬罩(h |
| 14 | TW200736288 | 具有双酚基团的胺基甲酸酯聚合物及含彼之光可成像组成物 | 2007.10.01 | 本发明系提供一种具式(I)结构之聚合物其中，n、R1、R2、R3、R4、R5、R6、a、b及c系如本 |
| 15 | TW200736854 | 清洗液组成物及其用途 | 2007.10.01 | 本发明系指一种清洗液组成物，包括：(A)0~25重量％之硷性化合物；(B)0.1~20重量％之醇胺类 |
| 16 | CN100381836C | 扩散膜 | 2008.04.16 | 本发明是提供一种扩散膜，其特征是包含含表面官能基的光学扩散微粒。由于含表面官能基的光学扩散微粒能与扩 |
| 17 | CN100592209C | 制造光电电路板的方法 | 2010.02.24 | 本发明提供一种制造光电电路板的方法，其包括：将包含低折射率包覆层(cladding layer)与高 |
| 18 | CN1243856A | 半导体制程用的化学机械研磨组合物 | 2000.02.09 | 一种用于半导体制程中研磨金属薄膜的化学机械研磨组合物,其包含1—25重量%的研磨颗粒;及0.1—20 |
| 19 | CN100589016C | 高折射率可聚合组合物及其用途 | 2010.02.10 | 本发明提供一种可聚合组合物，包含：(a)至少一种式(I)单体，(见右式)其中，X<sub>1</su |
| 20 | CN1370820A | 用于化学机械平坦化后的含水清洁液组合物 | 2002.09.25 | 本发明是关于一种用于化学机械平坦化后的含水清洁液组合物,其pH值介于2～6之间,包括1－10重量%的 |
| 21 | CN1244038A | 半导体封装用树脂组合物 | 2000.02.09 | 本发明关于一种半导体封装用树脂组合物,其含有:(A)至少含两个环氧基的环氧树脂;(B)可与(A)环氧 |
| 22 | CN101000386A | 聚光片 | 2007.07.18 | 本发明提供一种聚光片，其包含一基材，该基材的一侧包含一个含有无机微粒的抗刮涂层。本发明的聚光片可用于 |
| 23 | CN1629246A | 化学机械研磨浆液及其使用方法 | 2005.06.22 | 本发明提供一种用于半导体制程中的化学机械研磨浆液，此浆液包含一种复合研磨粒子。该复合研磨粒子是由表面 |
| 24 | CN100465663C | 聚光片 | 2009.03.04 | 本发明提供一种聚光片，其包含一基材，该基材的一侧包含一个含有无机微粒的抗刮涂层。本发明的聚光片可用于 |
| 25 | CN101377552A | 光学膜 | 2009.03.04 | 本发明公开了一种光学膜，其包含：具有微结构的基材；及位于该基材的微结构上的树脂涂层，其包含复数个有机 |
| 26 | CN1370811A | 化学机械研磨组合物 | 2002.09.25 | 本发明涉及一种用于半导体制造中的化学机械研磨(CMP)组合物,含有水性介质、研磨粒、及阴离子型表面活 |
| 27 | CN1530413A | 抗污涂料组合物 | 2004.09.22 | 本发明涉及一种涂料组合物，其包含聚合物、溶剂及硬化剂。其特征为该聚合物由以下单体聚合而成：(1)丙烯 |
| 28 | CN101339326A | 具有匀光特性的偏光回收膜 | 2009.01.07 | 本发明提供了一种具有匀光特性的偏光回收膜，其包含具有第一光学表面及第二光学表面的一胆固醇液晶层；形成 |
| 29 | CN201017139Y | 背光组件 | 2008.02.06 | 一种用于液晶显示器(LCD)的背光组件，包含一面光源装置及一光学膜片组。该面光源装置具有一框体、一反 |
| 30 | CN101162276A | 光学膜 | 2008.04.16 | 本发明系提供一种光学膜，其包含一具有第一光学面及第二光学面的基材及位于该基材的第一光学面的一微结构层 |
| 31 | TW328096 | 预涂式照相平版底材之多波段频率组合电蚀制程 | 1998.03.11 | 本发明系有关于将预涂式照相平板(Presensitized plate)之底材进行多波段频率的电化学 |
| 32 | TW372327 | 半导体制程用之化学机械研磨组合物 | 1999.10.21 | 一种可用于研磨半导体晶圆表面之化学机械研磨组合物，其包含2-20重量%之研磨颗粒及0.01-10重量 |
| 33 | TW200424296 | 化学机械研磨方法及浆液 | 2004.11.16 | 本发明系关于一种用于研磨半导体晶圆表面之化学机械研磨方法，其步骤包括分别配制化学药剂及研磨剂；于研磨 |
| 34 | TW200521165 | 反射膜 | 2005.07.01 | 本发明系关于一种反射膜，其包含以高分子树脂为上下层基材，及由聚酯树脂与硫酸钡所构成之中间层，其中至少 |
| 35 | TW486514 | 半导体制程用之化学机械研磨组合物 | 2002.05.11 | 本发明系提供一种用于半导体制程中之化学机械研磨组合物，其包含作为研磨促进剂之亚磷酸及/或其盐类。本发 |
| 36 | TW200604303 | 抗紫外线之光学膜 | 2006.02.01 | 本发明系关于一种抗UV光学膜，其包含一基材，其特征为至少有一基材表面涂布抗UV涂层，且该抗UV涂层包 |
| 37 | TW499477 | 用于后化学机械平坦化之水相清洁液组成物 | 2002.08.21 | 本发明系关于一种用于后化学机械平坦化之水相清洁液组成物，其pH值介于2～6之间，包括1-10重量%之 |
| 38 | CN103525354B | 可光固化的框胶材料组合物 | 2016.02.24 | 本发明提供一种可光固化的框胶材料组合物，其包含：a)具有一或多个官能基的(甲基)丙烯酸酯类低聚物；b |
| 39 | 聚醯亚胺之前驱物组合物及其应用 | 2011.05.11 | ||
| 40 | CN102876102B | 导电性涂料组合物 | 2015.10.21 | 本发明提供一种导电性涂料组合物，其包含：导电性有机高分子、非导电性有机化合物、溶剂及视需要的硬化剂； |
| 41 | CN101117384A | 聚酰亚胺的前驱物和其应用 | 2008.02.06 | 本发明提供一种具式(1)结构的聚酰亚胺的前驱物其中，R、R<SUB>x</SUB>、G、P及m为如本 |
| 42 | CN101487977A | 感光型聚酰亚胺 | 2009.07.22 | 本发明系关于一种经环氧化物改性的感光型聚酰亚胺。本发明的聚酰亚胺具有优异的耐热性、抗化性与可挠性，可 |
| 43 | TW200916311 | 具有强化构造之光学薄片 | 2009.04.16 | 本发明系提供一种具有强化构造之光学薄片，其包含一基材以及至少一保护层，该保护层系位于该基材之至少一表 |
| 44 | CN100476534C | 高硬度光学膜及其用途 | 2009.04.08 | 本发明涉及一种光学膜，其包含一透明基板及至少一层涂布于该基板表面的涂层，该涂层包含聚合基质及分散于其 |
| 45 | 复合光触媒之制造方法 | 2011.01.01 | ||
| 46 | TWI378966 | 消光组成物 | 2012.12.11 | 本发明提供一种消光组成物，其包含改质黏土及至少一种丙烯酸酯单体，其中该改质黏土之含量，以该消光组成物 |
| 47 | CN103044299B | 一含硫丙烯酸酯的寡聚物与树状聚合物及其制备方法 | 2015.09.30 | 本发明提供一种具有高折射率的含硫丙烯酸酯寡聚物与树状聚合物及其制备方法。所述的含硫丙烯酸酯寡聚物与树 |
| 48 | CN102200591B | 增光穿透膜及含增光穿透膜的太阳能电池组件 | 2015.06.24 | 本发明是有关于一种增光穿透膜及含增光穿透膜的太阳能电池组件，其所述增光穿透膜包含一基材及位于所述基材 |
| 49 | CN103351375B | 噻吩衍生物及其应用 | 2015.06.03 | 本发明是有关于一种噻吩衍生物及其应用。该噻吩衍生物，其具式（1）所示的化学结构。其中，X是经取代或未 |
| 50 | CN104659119A | 增光穿透膜及含增光穿透膜的太阳能电池组件 | 2015.05.27 | 本发明是有关于一种增光穿透膜及含增光穿透膜的太阳能电池组件，其所述增光穿透膜包含一基材及位于所述基材 |
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| Telephone:00886 7 6963331 |
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